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更新時間：2026-01-07 
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??? 一、產品背景與核心功能
在半導體制造中，超純水因離子成分極低，清洗時容易產生靜電，導致電路破壞、表面荷電及微粒子再附著等不良現象。
MEGCON通過向超純水中溶解碳酸氣體（形成酸性功能水），有效消除靜電，從而解決因靜電引起的障礙，降低產品不良率，提升良品率。
該設備廣泛應用于對潔凈度要求極的高的精密清洗環節，具體包括：
半導體制造：晶圓切割（Dicing）工程清洗、高壓噴射清洗、洗滌塔（Scrubber）清洗。
顯示面板制造：液晶面板、光掩膜（Photo Mask）及光罩（Reticle）的清洗。
微粒子混入風險低，且碳酸氣體消耗量少。
裝置進出口的超純水壓力損失小，不影響水路系統。
采用反饋控制技術，即使流量波動，也能迅速控制至目標比電阻值。
提供符合歐洲安全標準的CE標記系列，支持出口。
具備大流量處理能力，滿足不同規模生產線的需求。
利用膜分離技術，將碳酸氣體通過膜介面溶解于超純水中。
柜式（Cabinet Type）：型號如 PRCⅡ+ - 1000ACD，分為標準型和S型（帶蜂鳴器、雙色燈塔、腳輪）。
機架式（Rack Type）：型號如 PRCⅡ+ - 1000AD（內置氣泵）及 FRCⅡ+ 系列（外部供氣）。
最的大流量：提供1000L/hr、2000L/hr、4000L/hr等多種規格。
控制范圍：0.1-0.5 MΩ·cm 至 0.2-2.0 MΩ·cm（視具體型號而定）。
尺寸與重量：
柜式：約520W×400D×1150H mm，重量約65-71kg。
機架式：約480W×355D×200H mm，重量約15kg。
連接口徑：Rc1/2 至 Rc1 1/4（柜式），IDφ19（機架式軟管接口）。
超純水：壓力0.35MPa以下（常用），溫度5-35℃，水質10MΩ·cm以上。
碳酸氣體：壓力0.1-0.2MPa，純度99.5%以上。
電源：AC100-240V（50/60Hz）。
該網頁詳細展示了MEGCON系列如何通過創新的氣體溶解技術解決半導體制造中的靜電難題，其精準的流量控制和多種規格配置體現了NGK在工業精密清洗領域的技術實力與定制化服務能力。
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