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更新時間：2026-04-10 
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兩款設(shè)備同屬山田光學(xué)高亮度鹵素光源檢測系列，定位為人工目視檢測的輔助照明設(shè)備，非全自動缺陷檢測系統(tǒng)。主要應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓（硅片、砷化鎵、碳化硅等）、光掩膜、液晶基板等精密表面的制程后檢查，可高效識別表面異物、微劃痕、拋光不均、霧狀缺陷、滑移線等微觀瑕疵。
峰值照度：≥400,000 勒克斯（Lux），遠超常規(guī) LED 檢測光源。
光源類型：3400K 高色溫鹵素?zé)?/span>，光譜連續(xù)、顯色性佳（Ra≈100），可清晰呈現(xiàn) 0.2 微米級細微缺陷。
照明均勻性：經(jīng)精密光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化，照射區(qū)域光場分布均勻，無中心亮斑、邊緣衰減問題。
采用冷反射鏡設(shè)計，樣品熱輻射影響降至傳統(tǒng)鋁鏡的1/3。
有效抑制紅外熱量傳遞，避免晶圓等熱敏材料受熱變形、損傷，支持長時間連續(xù)檢測。
高照度模式：用于細微缺陷精檢、定位。
低照度模式：用于快速全域初檢、外觀瀏覽。
| 參數(shù) | YPI-150ID | YP-250I |
|---|---|---|
| 有效照明直徑 | φ30mm | φ60mm |
| 適配晶圓尺寸 | 6 英寸及以下 | 8 英寸及以下 |
| 冷卻方式 | 自然冷卻 | 強制風(fēng)扇冷卻（螺旋槳 / 管道風(fēng)機可選） |
| 功耗 | 約 200W | 約 350W |
| 外形尺寸 | 140(W)×94(H)×185(D)mm | 135(W)×72(H)×260(D)mm |
半導(dǎo)體晶圓制程：拋光、清洗、鍍膜后表面質(zhì)量抽檢，定位納米級劃痕、殘留、顆粒污染。
光掩膜 / 基板檢測：掩膜版、玻璃基板表面缺陷目視確認。
精密元件檢查：適配對熱敏感、高平整度要求的光學(xué)元件、磁性材料表面檢測。
高亮度：突破常規(guī)光源亮度極限，讓微米級缺陷肉眼可見。
低損傷：冷鏡控溫，保護晶圓等精密材料表面。
高效率：雙檔切換、大 / 小光斑覆蓋，適配不同尺寸與檢測節(jié)奏。
穩(wěn)定性：工業(yè)級設(shè)計，適配潔凈室 0–40℃環(huán)境連續(xù)作業(yè)。
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